Q150T新型触摸屏高真空***体化溅射镀膜仪

特点和优点: 
● 金属溅射或碳蒸发或两者兼备：***体化设计，节约空间
● 精细颗粒溅射：高分辨率场发射扫描电镜（FE-SEM）制样的精细镀膜应用
● 涡轮分子泵高真空系统：允许不氧化贵金属和易氧化其它金属靶材的溅射镀膜，大大拓宽了可溅射靶材范围，既适合普通SEM、高分辨率FE-SEM镀膜制样应用，也为许多薄膜应用等材料科研领域提供理想的镀膜平台
● 全自动触摸屏控制：快速数据输入，简单操作
● 可储存多个客户自定义镀膜方案：对多用户实验室十分理想
● 与镀膜过程和镀膜材料相匹配的预编程自动真空控制
● 精细的厚度控制：使用膜厚监控选项
● “智能”式系统识别：自动感知用户所装的插入式镀膜头的类型
● 高真空碳蒸镀：对SEM和TEM镀碳膜应用非常理想
● 蒸发电流波形控制
● Drop-in落入式快换样品台（标配旋转台）
● 真空闭锁功能：可让工作腔室处于真空状态，改善后续真空效果，或在真空条件下保存样品
● 镀制厚膜能力：***次真空条件下的溅射时间可长达60分钟（材料科研领域的应用）
● 人体工程学设计的整体成型机壳：易维护和易拆装
● 带有本地FTP服务器连接的以太网端口：简单的程序更新
● 设有功率因素补偿，有效利用电能，降低运行成本
● 符合当前电器法规（CE认证）

Q150T新型触摸屏高真空一体化溅射镀膜仪

主要技术指标:
● 工作腔室：150mm内径 x 127mm高
● 触摸屏全图像用户界面
● 样品台：标配旋转台
● 真空系统：
    涡轮分子泵：带有空气冷却的涡轮分子泵
    旋转机械泵：双级旋转机械泵
● 溅射电流：0-150mA；可预设膜厚（需FTM选项）或使用内置定时器
● 溅射时间：最长60分钟
● 碳蒸发：稳定的无纹波直流电源控制的脉冲蒸发，确保源自碳棒或碳丝的可重复蒸碳。
● 金属蒸发/光阑清洁头：用于源自钨丝篮或舟的金属热蒸发。
● 尺寸和重量：仪器机箱：585mm宽x 470mm长 x 410mm高 (总高: 650mm)
● 仪器总重量：33.4Kg

Q150T新型触摸屏高真空***体化溅射镀膜仪

Q150T系列：涡轮泵高真空镀膜仪，可进行高性能精细颗粒镀膜，适合场发射电镜制样应用以及制作无定形碳覆形膜及TEM栅网支持膜。基于内部安装的涡轮分子泵抽真空平台，Q150T具有三种版本/型号的镀膜仪：溅射、蒸发镀碳和溅射/蒸镀。在运用***新科技整体成型的机箱上，设有彩色触摸屏，可允许多用户输入和贮存镀膜方案。在同***个易使用系统中，根据所选择的配置，Q150T可以是***台***具水准的离子溅射镀膜仪用于高分辨扫描电镜（SEM）制样，也可以是***台适合SEM或透射电镜（TEM）应用的蒸发镀碳仪，或者是***台兼具溅射和蒸镀两功能的***体化镀膜仪。Q150T具有快速溅射易氧化和不氧化金属靶材的宽可选范围的能力，使其也成为许多金属薄膜研究及电极的应用等材料科学领域的***个理想镀膜平台。
 
高真空性能
Q150T装在***个坚固的特制整体成型机壳中，它容纳了所有工作部件，包括空气冷却的涡轮分子泵。自动进气控制保证了溅射期间***佳的真空条件。真空腔室带有防爆安全罩。Q150T含有的“真空闭锁”允许在不用设备时维持腔室真空，从而改善真空性能。

Q150T系列三种型号
Q150TS：高分辨率磁控离子溅射镀膜仪，可溅射易氧化及不氧化金属（贵金属）。可选各种溅射靶材，包括常用于场发射电镜的铱和铬。
Q150TE：高真空热蒸发镀碳仪，可制作高稳定性的碳膜和表面覆形膜，对透射电镜（TEM）的应用非常理想。
Q150TES：集合了溅射和蒸镀两种沉积镀膜功能的镀膜系统，沉积镀膜头可在数秒内快速更换，智能逻辑系统自动识别出所装的镀膜头类型，并显示相应的操作设置。
上述每个型号还可选配***系列可选附件，如：金属蒸镀、碳丝蒸镀、膜厚测量等。

触摸屏控制
Q150T的操作核心为简单的触摸屏，即使***不熟练的或偶而使用的操作者，仪器也能使其快速键入和贮存自己的处理数据。程序中已贮存了各种典型溅射及蒸发镀膜的参数资料，以便提供进***步的易操作帮助。

镀膜头选项
具有***系列可互换、即插即用的镀膜头：
溅射头，可使用易氧化及非氧化金属两大类宽范围靶材；并可用另外的溅射头来快速更换镀膜材料（仅为TS及TES版本）
碳棒蒸发头
碳丝蒸发头
金属蒸发/光阑清洁头，包括向上蒸发或向下蒸发两种蒸发方式（仅为TE和TES版本）

样品台选项
Q150T具有各种样品台以满足大部分的应用。所有的样品台更换容易，drop-in式样（无需螺钉）并且高度可调（除旋转行星台）。标准配置为旋转台，可选：
可预设倾斜角度的旋转台
可变角度旋转行星台
用于4”晶圆的平面旋转台
用于显微镜载玻片的样品台

其它选项
用于高样品的加高腔室
膜厚监测附件（FTM）
用于测量低和高真空的全范围真空计