SC3000新型溅射镀膜仪(12英寸)

Quorum/Emitech***近投放市场的新型台式溅射镀膜仪SC3000，可适合电镜制样和12英寸晶圆快速镀膜等用途。这个新型溅镀系统重要特点和优点在于它紧凑的腔室尺寸、***少的抽真空时间和***大的制样产量。
这个采用全自动控制的新型系统能够在***次真空条件下顺序溅镀多达三层不同的金属膜，靶材可选菜单有15种预设工作程序的材料，还能自动探测放入的晶圆尺寸如100，150，200或300mm。具有涡轮泵的高真空镀膜仪使用标准溅射靶材，在系统中允许使用多种靶材，如易氧化金属和贵金属。

SC3000溅射仪系统可对12英寸（300mm）晶圆进行喷镀。它具有多靶溅射，在不破坏真空的情况下，可进行三层顺序涂层。
此仪器为高真空、高分辨率镀膜系统，它可进行精细及精确、可重复的镀膜。
SC3000中配有三个磁电管靶，可镀超大直径的样品，加之可旋转的样品台，保证了均匀沉积。这种方式不需要特大的靶面，而用标准靶即可。
多靶系统在半导体晶圆工业尤为适用。它使用涡轮分子泵，前***为旋转机械泵。集成的仪器面板和即插即用的电子学***大的“up-time”，以及用户友好设计，保证了多学科领域满意的应用。
溅射参数可预设，包括气体放气电磁针阀。
在全自动镀膜过程中，独立的真空泵自始自终由仪器自动控制。可用金作为溅射靶材，也可选用需要预清洁或去除氧化层的靶，如铬靶。
闸门已作为标准配置，该装置允许在维持真空的同时可进行溅射清洁和溅射循环。

● 模块化控制电子学单元
● 清洁的真空设计
● 旋转样品台
● 多靶溅射（配有溅射清洁光闸）
● LCD 状态/数据登录显示
● 用户菜单输入可存贮10个方案
● LCD显示（真空、时间及电流）
● 灵敏的真空测量头（操作真空全范围显示）
● 具有ISO 100 Flange涡轮分子泵抽气系统，（可选更大的泵）240 L/sec
● 整个全自动程序包括净化非常快—15分钟
● Peltier冷却靶面—无需循环水
● 不用打开真空即可进行三层顺序镀膜

SC3000新型溅射镀膜仪(12英寸)

仪器尺寸：450mm W x 500mm D x 300mm H （整个高度650mm） 重量：55公斤
工作腔室：不锈钢 300mm Dia x 200mm H（具有观察窗口）
靶：三靶54 mm 直径 x 0.3mm 厚铬作为标准靶材（各种靶材可选，如：金、铂、金/钯合金）
旋转样品台：适合6英寸及12英寸晶圆可调，
与靶的距离为60mm
真空范围：ATM-1x10-5 mbar
操作真空：1 x 10-3 mbar到 1 x 10-4 mbar
沉积电流：0-750mA
沉积速度：0-10nm/分
溅射定时：0-4 分钟
电源：230 伏 50Hz (包括泵最大电流为10安培)
115 伏 60Hz (包括泵最大电流为20安培)
Services：Argon - Nominal 10 psi Nitrogen：Nominal 10 psi (Argon may be used as common gas)
前级旋转泵：No5真空泵, 85L/Min complete with Vacuum Hose and Oil Mist Filter. 8m3/Hr.

SC3000新型溅射镀膜仪(12英寸)