大部分半透明的或具有轻微吸收性的薄膜能够被快速、可靠的测量：氧化物、氮化物、感光耐蚀膜、聚合物、半导体(Si, aSi,polySi)、硬涂层(SiC, DLC), 聚合物涂料 (Paralene,PMMA,聚酰胺)，薄金属薄膜等。
MProbe系统
精度 | 0.01nm或0.01% |
精确度 | 0.2% 或1nm |
稳定性 | 0.02nm或0.03% |
光斑尺寸 | 标准为3mm, 低至3μm |
样本大小 | 从1 mm |
厚度范围: 15 nm-50 um
波长范围: 400nm -1100 nm
LCD, FPD应用: ITO, 细胞间隙，聚酰胺。光学涂层: 介质滤波器，硬涂层，防反射涂层半导体和电解质: 氧化物，氮化物, OLED堆
实时测量和分析。各种多层次的, 薄的，厚的，独立和不均匀层。
丰富的材料库 (500多种材料) – 新材料容易增添。Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA 等
使用灵活: 可联网在操作台桌面或现场进行研究与开发。
用TCP或Modbus接口能容易的和外部系统连接。
测量参数：厚度、光学常数、表面粗糙度。
界面友好强大: 测量和分析设置简单。
实用的工具：仿真和灵敏度分析，背景和缩放修正,连接层和材料，多样品测量，动态测量和生产批量处理。
测量300 nm 硅氧化膜 测量与模型数据拟合
主要参数
从硅晶片原反射比。信号***大（16位）。
积分时间：10ms
光谱范围 (nm) | 400-1100 |
分光仪/检测器 | 分光仪F4,Si CCD 3600像素,16位ADC,
范围360-1100 nm |
光谱分辨率 | <2 nm (标准)
<1 nm (选项) |
光源 | 卤钨灯（Xe填充）5Ｗ, CT 2800o
使用时间: 10000 hrs |
反射比探测 | 光导纤维（７纤维束）,
400μm纤维芯 |
精度 | <0.01 nm或0.01% |
准确度 | <1nm或0.2% |
重量 | 4 kg |
尺寸 | 8”x 10” x 4” (WxDxH) |
功率 | 100-250VAC, 50/60 Hz
20W |
测量500nm AlN. 测量参数：厚度和表面粗糙度。 换算系数应用到正确的距离以改变配置。
选配硬件 |
-FLVis | Vis消色差聚焦透镜. WD:35mm. 光板尺寸:<0.5mm. |
-LP500 | 长通滤片, 波长范围在500nm以下.
用于测量光阻材料。（其他滤器可用） |
-FDHolder | 样品架朝下.测量透明和柔韧的样本 |
-TO | 选配透射率 |
-TO Switch | 2通道开关，结合测量反射率和透光率. |
- 2oW | 更改为20W (CT 3100o, 使用时间2000hrs) 钨卤素灯. |
-HR | 升***光谱仪分辨率<1nm |
- TR | 在输入/输出触发5V TTL。1外部(输入)
触发器以开始测量,6输出触发器 |
软件选项 |
-MOD | 基于Modbus标准远程控制(TCP) |
- CM | 不同测量与指定数量的测量和/或延迟 |
沪公网安备31011502016460号
