光谱反射式膜厚、折射率测量仪器是***种利用光谱反射原理来测量薄膜厚度和折射率的设备。反射测量是通过分析从单层或多层薄膜结构反射回来的光强变化，来确定薄膜的厚度。在这个过程中，入射光以垂直的角度照射到样品表面。由于界面之间的干涉效应，反射光谱会发生变化，这些变化可以用来计算薄膜的厚度，无论是在透明、部分透明还是完全反射的基板上。入射到样品表面的光经薄膜上下表面多次干涉后从样品表面出射，经过光谱仪的采集，得到出射光光强，出射光光强与入射光光强之比值即为薄膜的反射率（），此反射率表现为波长的函数，得到反射率曲线。
广泛应用于半导体制造、平板显示、光学镀膜、太阳能电池等。中，反射式膜厚测量仪可以用于测量晶圆上的薄膜厚度，如二氧化硅、氮化硅等，以确保半导体器件的性能和可靠性。中，反射式膜厚测量仪可以用于测量液晶显示器、有机发光二极管等的薄膜厚度，以确保显示效果和质量。中，反射式膜厚测量仪可以用于测量光学镜片、滤光片等的薄膜厚度，以确保光学性能和质量。中，反射式膜厚测量仪可以用于测量太阳能电池板上的薄膜厚度，如氮化硅、氧化铝等，以确保太阳能电池的效率和可靠性。晶诺微 Quasar R100是***款体积小巧的光谱反射式膜厚、折射率测量仪器，操作简单，极易上手。Quasar R100软件还拥有丰富的的材料数据库，客户还可以通过软件及自带数据库对材料，菜单进行管理，并具有丰富的数据查看、统计功能。
可测量如4-12英寸的晶圆及其他各种不规则形状样品；
b．测量精度和稳定性高：可测量材料厚度、折射率、吸收系数和反射率等；
(文章来源于仪器网)
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