真空设备定制:
脉冲激光沉积系统定制、磁控溅射系统定制、二次电子发射系数测试系统……
其他:
真空设备维护、真空设备升***改造、样品台改造、机械加工……
脉冲激光沉积设备(PLD)定制
我们经过多年的技术积累,充分研究了***内外PLD设备的优缺点,开发出了性能优异的PLD系统。
我们可以提供单腔室简易PLD系统和双腔室复杂PLD系统。
图1.单腔室简易型脉冲激光沉积系统(PLD)
图2. 双腔室脉冲激光沉积系统(PLD)
设计特点如下:
磁控溅射靶枪定制
1.规格参数
固定法兰 | CF100 |
真空内长度 | 283 mm(可定制) |
真空内直径 | 88 mm |
水冷要求 | 0.5 升/分钟 |
靶材种类 | 金属、合金、半导体、绝缘体 |
靶材直径 | 2" (50 mm) |
靶材厚度 | 0.5-6 mm(磁性材料≤3mm) |
磁铁 | Sm2Co7 |
电源 | DC或RF |
挡板控制 | 手动或电机控制 |
烘烤温度 | 250°C |
2.特点
3.用途
高校科研院所磁控溅射薄膜材料的研究与制备;
本科生或研究生的仪器教学;
二次电子发射系数测试系统定制
二次电子发射系数测试设备(SEY)用于金属或介质材料二次电子发射系数的测试。由于涉及到微弱电信号的探测和捕捉,该设备结构复杂,测试的灵敏度和重复性要求较高,目前***外只有少数几***公司可以研制并生产。为打破垄断,北京汇德信科技有限公司研制开发了具有自主知识产权,专用于导体和介质材料二次电子发射系数分析测试的整套解决方案。
LEO 二次电子发射系数测试系统(SEY)
设计特点如下:
栅网的透过率大于80%,收集效率高;
采用三层栅网及半球型收集器,可测试材料的二次电子发射系数及二次电子能谱;
***次电子枪的能量范围从50 eV到5 KeV,并可扩展到更高能量;
具备脉冲信号测量功能,可测试介质材料的二次电子系数;
样品台可倾斜,可测试不同入射角度下的二次电子系数;