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真空设备定制、改造与维护

价  格:询价

产  地:更新时间:2021-03-08 15:30

品  牌:其他型  号:pld/SEY

状  态:正常点击量:2856

400-006-7520
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上海非利加实业有限公司

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真空设备定制:


脉冲激光沉积系统定制、磁控溅射系统定制、二次电子发射系数测试系统……


其他:


真空设备维护、真空设备升***改造、样品台改造、机械加工……


脉冲激光沉积设备(PLD)定制


我们经过多年的技术积累,充分研究了***内外PLD设备的优缺点,开发出了性能优异的PLD系统。


我们可以提供单腔室简易PLD系统和双腔室复杂PLD系统。


单腔室简易型脉冲激光沉积系统(PLD)
图1.单腔室简易型脉冲激光沉积系统(PLD)

双腔室脉冲激光沉积系统(PLD)

图2. 双腔室脉冲激光沉积系统(PLD)


设计特点如下:


  • 设计灵活新颖,可根据用户需求定制系统;

  • 自主设计的激光加热系统,加热温度1400°C;

  • 靶台具有摆动功能,可增加靶材利用率;

  • 可配备高压RHEED,用于监测薄膜的生长过程;

  • 升***空间大,集成灵活度高,可加配离子源、溅射源等;

  • 可与其他真空设备对接;


磁控溅射靶枪定制


1.规格参数



固定法兰CF100
真空内长度283 mm(可定制)
真空内直径88 mm
水冷要求0.5 升/分钟
靶材种类金属、合金、半导体、绝缘体
靶材直径2" (50 mm)
靶材厚度0.5-6 mm(磁性材料≤3mm)
磁铁Sm2Co7
电源DC或RF
挡板控制手动或电机控制
烘烤温度250°C

磁控溅射靶枪


2.特点


  • 可以集成到多种***产或进口磁控溅射设备上,靶枪的真空内长度可以定制;

  • 安装法兰上带有独立的溅射气体接口;

  • 采用独特的气体导流罩将溅射气体引入到靶面,可以在靶材附近实现更高的气压,同时也能降低腔室的气压;


3.用途


  • 高校科研院所磁控溅射薄膜材料的研究与制备;

  • 本科生或研究生的仪器教学;


二次电子发射系数测试系统定制


二次电子发射系数测试设备(SEY)用于金属或介质材料二次电子发射系数的测试。由于涉及到微弱电信号的探测和捕捉,该设备结构复杂,测试的灵敏度和重复性要求较高,目前***外只有少数几***公司可以研制并生产。为打破垄断,北京汇德信科技有限公司研制开发了具有自主知识产权,专用于导体和介质材料二次电子发射系数分析测试的整套解决方案。


LEO 二次电子发射系数测试系统(SEY)

LEO 二次电子发射系数测试系统(SEY)


设计特点如下:


  • 栅网的透过率大于80%,收集效率高;

  • 采用三层栅网及半球型收集器,可测试材料的二次电子发射系数及二次电子能谱;

  • ***次电子枪的能量范围从50 eV到5 KeV,并可扩展到更高能量;

  • 具备脉冲信号测量功能,可测试介质材料的二次电子系数;

  • 样品台可倾斜,可测试不同入射角度下的二次电子系数;


产品参数


产品介绍



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