（8）掩模相对于样片运动行程：X: ±5mm; Y: ±5mm; Thelta: ±6°；
（9）汞灯功率：1000W（直流）；
（10）曝光能量密度：≥ 15mW/cm 2 ；
（11）曝光峰值波长:365nm；
（12）曝光方式：定时（***方式 0.1s—999.9s）；
（13）调平接触压力通过传感器保证重复
（14）数字设定对准间隙和曝光间隙
（15）具备压印模块接口，也具备接近模块接口
2．技术主要组成部分
（1）曝光头系统包括:
。 冷光椭球镜；
。德*** OSRAM1000W 直流高压汞灯；
。XYZ 汞灯调节台；
。 光学系统（冷光紫外平面反射镜、快门、蝇眼透镜组、冷光紫外抛物面反射镜）；
。 冷却风扇。
（2）对准工件台系统包括:
。掩模样片相对运动台；
。（XY），转动台；
。 样片调平机构；
。 样片调焦机构；
。 承片台 3 个： 4 英寸、6 英寸、8 英寸；
。 掩模夹 3 个：5 英寸、7 英寸、9 英寸。
（3）CCD 对准显微镜系统包括:
。4 倍显微镜 2 只；
。照明光源 2 套；
。 CCD 相机 2 只；
。22 英寸液晶显示器。
（5）电控系统：
。 汞灯触发电源(1000W)；
。 单片机控制系统；
。 控制柜桌。
（6）气动系统系统包括:
。气缸、电磁阀、减压阀、气动开关，电磁阀驱动，气动仪表等
（7）其他配置与附件
。真空泵***台；
。空压机***台；
。 配套气管 10m
沪公网安备31011502016460号
