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商品编号：89260

高级原子沉积机

价格：询价

产地：更新时间：2021-01-19 15:36

品牌：型号：P-300B Advanced ALD

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PICOSUN P-300B Advanced ALD 高***原子沉积机

技术参数
。基片尺寸和类型 300mm晶圆10片/批次（标准间距）
。200mm晶圆25+2片/批次（标准间距）

工艺温度 ：50 - 500 °C

基片传送选件：。 气动升降（手动加载）
。半自动装载，用线性装载器实现
。52片晶圆盒式全自动装载，用真空批量Load lock实现

前驱体： 。液态，固态，气态，臭氧源
。前驱源余量传感器，并提供清洗和装源服务
。4根独立源管线，*多加载6个前驱体源

重量：400 + 300 kg

尺寸： (W x H x D) 149 cm x 191 cm x 111 cm

选件：PICOFLOW™ 扩散增强，N2发生器，尾气处理器，定制设计，与工厂软件连接服务。

验收标准：标准设备验收标准为 Al2O3 工艺

PICOSUN高产量的批量型工业用ALD系统

各种的批量产品装载及自动化选项ALD技术可以覆盖各种形状、各种表面的样品，可以覆盖*细小的地方，*难到达的地方。具有高度的保形性、均***性及***无针孔。这使得ALD可以应用于各种行业里，实现各种表面的保护。ALD薄膜可以附着在各种表面上，例如金属，玻璃，塑料，乃至纤维及粉末。作为气相、低温的沉积技术，ALD薄膜可以生长在非常敏感的表面上，例如聚合物薄膜。

***，Picosun的ALD技术应用在钟表部件、珠宝、硬币上进行防着色，防腐蚀的装饰涂层。在生物植入医疗部件上的生物兼容、生物活性涂层。致密、惰性、密封、弹性、透明的ALD薄膜技术挑战传统的膜生长方式。在PCB防腐蚀保护、防摩损等领域，ALD层大大提升了部件的质量、可靠性及寿命。

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ALD U

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高级原子沉积机

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