PICOSUN P-1000 Pro ALD 生产型原子层沉积机
技术参数：
衬底尺寸和类型
。156 mm x 156 mm硅片800～1000片/批次（双面/背对背）
。高达400 mm x 600 mm玻璃基板30～50片/批次（双面/背对背）
。大批量的3D产品（例如：钟表部件，珠宝，硬币，医疗植入部件，机械部件等）
。多孔，通孔，高深宽比（HAR）样品
工艺温度： 50 - 500 °C
基片传送选件：
。气动升降（手动装载，带叉车forklift cart）
。全自动转载，用工业机器人实现
前驱体：
。液态、固态、气态、臭氧源
。前驱源余量传感器，并提供清洗和装源服务
。8根独立源管线，*多加载12个前驱体源
重量： 2000 kg
尺寸：(W x H x D) 230 cm x 270 cm x 125 cm
选件： PICOFLOW™ 扩散增强器，N2发生器，尾气处理器，定制设计，与工厂软件连接服务。
验收标准： 标准设备验收标准为 Al2O3 工艺
其他可选装置
其它可选装置：
PICOFLOW™ 扩散增强器
PICOFLOW™扩散增强器用于提升深沟槽、高深宽比样品的薄膜质量。同样适用于多孔、通孔、柔性样品，粉末及其他复杂纳米结构的样品。该装置兼容所有Picosun™ ALD设备。
POCA™ ａnd PICOVIBE™ 颗粒沉积系统
PIcosun提供工业及研究型粉末沉积解决方案。POCA™ 300粉末沉积腔可以加工大批量粉末材料，并可以直接集成到PICOSUN™ P-300生产线反应腔内。对于小批量的粉末材料，可以采用POCA™ 200粉末沉积腔集成到PICOSUN™ R系列的设备上。此部件体积小，可以为高质量的粉末材料研究提供多样化、成本低的解决方案。
Picosun PICOVIBE™装置可以使前驱源气体在粉末中的均匀分布，进***步提升粉末中每***个颗粒的薄膜均***性。
可连续沉积的Roll-to-roll 腔室
在印刷电子、OLED包装、薄膜电池、智能纺织材料、有机传感器、可循环或可生物降解包装材料、柔性显示器等研究领域，均要求连续的ALD镀膜 工艺。Picosun卷对卷ALD腔室可容纳300mm宽的衬底。并可直接集成到PICOSUN™P-300生产型反应腔室上。我们还提供用于研究的小型卷对卷腔室，可容
纳70mm宽的衬底。
沪公网安备31011502016460号
