德*** IPLAS 微波等离子化学气相沉积技术（MPCVD), 通过等离子增加前驱体的反应速率，降低反应温度。适合制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态好的高质量硬质薄膜和晶体。
MPCVD是世界公认的制备大尺寸单晶金刚石有效手段。德***iplas公司的 CYRANNUS® 等离子技术解决了传统等离子技术的局限，可以在10mbar到室压范围内激发高稳定度的等离子团，限度的减少了因气流、气压、气体成分、电压等因素波动引起的等离子体状态的变化，从而确保单晶生长的持续性，为合成大尺寸单晶金刚石提供有力保证。
| 化学机理概要： 碳氢化合物：提供沉积材料 氢气：生成sp3键 氧：对石墨相/sp2键侵蚀 惰性气体：缓冲气体，或生成纳米晶体。 适用合成材料： 大尺寸宝石***单晶钻石 高取向度金刚石晶体 纳米结晶金刚石 碳纳米管/类金刚石碳（DLC） |  金刚石薄膜宝石***钻石 vvs1,~1 carrat, E grade | | |
功率：1-2kW, 1-3kW, 3-6kW,1-6kW，5-30kW 等离子团直径：70mm, 145mm, 250mm, 400mm | | | | 其他应用：
MPCVD同样适用于平面基体，或曲面颗粒的其它硬质材料如Al2O3，c-BN的薄膜沉积和晶体合成。德***iplas公司凭借几十年在等离子技术领域的积累，可以为用户提供高度定制的设备，满足用户不同的应用需要。
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