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台式三维原子沉积系统ALD

价  格:询价

产  地:更新时间:2021-01-19 15:36

品  牌:型  号:美Arradiance 台式三维原子沉积系统ALD

状  态:正常点击量:2691

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美Arradiance 台式三维原子沉积系统ALD
 
详细介绍

原子层沉积(Atomic layer deposition, ALD是通过将气相前驱体脉冲交替的通入反应器,化学吸附在沉积衬底上并反应形成沉积膜的***种方法,是***种可以将物质以单原子膜形式逐层的镀在衬底表面的方法。因此,它是***种真正的“纳米”技术,以精确控制方式实现纳米***的超薄薄膜沉积。由于ALD利用的是饱和化学吸附的特性,因此可以确保对大面积、多空、管状、粉末或其他复杂形状基体的高保形的均匀沉积。

   美***Arradiance 公司的GEMStar XT系列台式 ALD系统,在小巧的机身(78 x56 x28 cm)中集成了原子层沉积所需的所有功能,可*多容纳9片8英寸基片同时沉积。GEMStar XT全系配备热壁,结合前驱体瓶加热,管路加热,横向喷头等设计,使温度均匀性高达99.9%,气流对温度影响减少到0.03%以下。高温度稳定度的设计不仅实现在 8英寸基体上膜厚的不均匀性小于1%,而且更适合对超高长径比的孔径结构等3D结构实现均匀薄膜覆盖,可实现对高达1500:1长径比微纳深孔内部的均匀沉积

 

GEMStar XT 产品特点:

* 300℃ 铝合金热壁,对流式温度控制

* 175℃温控150ml前驱体瓶,200℃温控输运支管

* 可容纳多片468英寸样品同时沉积

* 可容纳1.25英寸/32mm厚度的基体

* 标准CF-40接口

* 可安装原位测量或粉末沉积模块等选件

* 等离子体辅助ALD插件

* 多种配件可供选择

GEMStar XT 产品型号:

GEMStar XT

* 8英寸/200 mm基片沉积(4'和6' 可选)

* 单/双路前驱体输运支管, 4/8路前驱体瓶接口

* 不可升***为等离子体增强ALD

GEMStar XT-R

* 8英寸(200mm)基片沉积(4'和6' 可选)

* 单/双路前驱体输运支管, 4/8路前驱体瓶和CF-40接口

* 可升***为等离子体增强ALD

 

GEMStar XT-P

* 8英寸/200mm基片沉积(4'和6 '可选)

* 单/双路前驱体输运支管, 4/8路前驱体瓶和CF-40接口

* 装备高性能ICP等离子发生器

  13.56 MHz 的等离子源非常紧凑,只需风冷,运行功率达300W

* 标配3组气流质量控制计(MFC)控制的等离子气源线,和***条MFC控制的运载气体线,使难以沉积的氧化物、氮化物、金属也可以实现均匀沉积。

   
 新产品发布:
 
 GEMStar NanoCUBE

* 100 mm 立方体样品 沉积

* 单路前驱体输运支管, 2路前驱体瓶接口

* 主要用于3D多孔材料,以及厚样品的沉积

 

丰富配件:

 

多样品托盘:

* 多样品夹具,样品尺寸(8", 6", 4")向下兼容。

* 多基片夹具,*多同时容纳9片基片。

 

温控热托盘:

* 可加热样品托盘,温度500℃,可实现热盘-热壁复合加热方式。

 

 

 

粉末沉积盘:

 

 

臭氧发生器:

 

 

 
 晶振测厚仪
 
 
 前驱体加热套
 

粉末旋转沉积罐模块:

配合热壁加热方式,进***步实现对微纳粉末样品全保型薄膜均匀沉积包覆。

 

 

手套箱接口:

可从侧面或背面完美接入手套箱,与从底部接入手套箱不同,不占用手套箱空间。由于主机在手套箱侧面,反应过程中不对手套箱有加热效应,不影响手套箱内温度。

 

 

 

 

     

应用领域

 

 


产品参数


产品介绍



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