型号：Zeiss Sigma SEM

主要功能：
·利用曝光抗蚀剂，采用电子束直接曝光，可在各种衬底材料表面直写各种图形，图形结构（*小线宽为10mm），是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要工具。广泛应用于纳米器件，光子晶体，低维半导体等前沿领域。

·技术指标：
·肖特基热场发射电子源
·加速电压：100V～30kV
·放大倍率：12X～1000,000X
·SEM分辨率：1nm@30kV,1.5nm (15kV),2.8nm（1kV）
·电子束曝光：10nm（20kV）
·场拼接精度：<100nm
·扫描频率：6MHz
·图形格式：GDSII

Zeiss Sigma SEM electron beam direct writer

Main functions:

· direct exposure of electron beam with exposure resist can be used to directly write various patterns on the surface of various substrate materials. Graph structure (minimum line width of 10mm) is an important tool for studying the quantum behavior of materials in low dimensions ａnd small sizes.Widely used in nano-devices, photonic crystals, low - dimensional semiconductor ａnd other frontier fields.