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产 地：更新时间：2021-01-19 15:36
品 牌：型 号：Oracle III
状 态：正常点击量：1792
联 系 人： 上海非利加实业有限公司
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美***Trion Technology 反应式离子刻蚀系统及沉积系统
Trion始于***九八九年的等离子刻蚀与沉积系统制造商，Trion为化合物半导体、MEMS(微机电系统)、光电器件以及其他半导体市场提供多种设备。我们的产品在业内以系统占地面积*小、成本低而著称，且设备及工艺的可靠性和稳定性久经考验。从整套的批量生产用设备，到简单的实验室研发用系统，尽在Trion。
批量生产用设备: Oracle III反应离子刻蚀与沉积系统
Oracle III由中央真空传输系统(CVT)、真空盒升降机和*多四个工艺反应室构成。这些工艺反应室与中央负载锁对接，既能够以生产模式运行，也能够作为单个系统独立作业。 Oracle III是市场上*灵活的系统，既可以为实验室环境进行配置(使用单基片装卸)，也可以为批量生产进行配置(使用真空盒升降机进行基片传送)。 由于Oracle III *多可容纳四个独立的工艺室，其可以有多种不同的工艺组合，其中包括RIE/ICP (反应离子刻蚀机/电感耦合等离子)刻蚀和PECVD 沉积。多个室可以同时工作。鉴于所有工艺室均有真空负载锁，工艺运行安全且没有大气污染。
光学平台-自动平衡精密隔振光学平台
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沪公网安备31011502016460号
