通用磁控溅射镀膜机

特点：

1、支持向上或向下的镀膜方式；

2、的溅射靶材结构设计，实现膜厚分部的稳定可靠；

3、高速旋转的伞具与实际镀膜工件的监控位置，实现了所见即所得；

4、多通道透射式监控，配合可调节膜厚修正板，实现了膜厚分布的反馈控制；

5、支持任意膜厚的控制；

6、通用的控制平台，友好的人机界面，使客户可以自行设置镀膜机的所有控制参数；

7、开放式接口，方便安装第三方的光学膜厚仪；

8、气流和气压同时实时控制，适用出气量大的低温镀膜。

通用磁控溅射镀膜机

工艺参数：

1、真空系统

     a) 极限真空度：4.0×10-5Pa 

     b) 抽至10Pa所用时间：Q 10 分钟

     c) 漏率： 3.0×10-5Pa m3/sec

2、控制精度

     a) 靶材尺寸：8寸直径

     b) 工件旋速: 20-120RPM

     c) 工件尺寸：直径900mm

     d) 离子源：等离子体离子源

     e) 加热温度：上下双加热控制，Z高温度350度

     f）高真空泵：DN400油扩散泵或电子泵

     g）低真空泵组：机械泵+罗茨泵机组

     h）冷阱：双组Polycold

3、光学监控系统OMS

     a) 波长精度：0.2nm

     b) 光强波动: 白光< 0.1%，激光< 0.02%

     c) 波长范围: 400nm-1650nm