Park XE7
创新研究的经济之选
Park XE7配有Park Systems的所有技术,而且价格十分亲民。XE7在细节的设计上也相当用心,是帮助您准确且不超预算地完成研究的理想之选。
无与伦比的高性能
在同***产品中,Park XE7能够带来纳米***分辨率的测量效果。得益于独特的原子力显微镜架构,即独立的XY轴和Z轴柔性扫描器,XE7能够实现平滑、正交且线性的扫描测量,从而精确成像和测量样品的特征。此外,Park所独有的True Non-Contact?模式还能为您带来前所未有的图像效果,探针可以在多次扫描后图像的分辨率仍不会受影响。
满足当前和未来需求
在Park XE7的帮助下,现在与未来皆在您的掌控中。Park XE7带有业内*全面的测量模式。这些模式不仅能满足您目前的需求,也考虑到未来不断变化的需求。再者,XE7具有市场上*为开放性的设计,允许您整合其他附件和仪器,从而满足您特殊的研究需求。
易于使用和高生产率
Park XE7拥有简洁的图形用户界面和自动化工具,即便是初学者也可以快速地完成对样品的扫描。无论是预准直探针、简单的样品和探针更换、轻松的激光准直、自上而下的同轴视角以及用户友好型扫描控制和软件处理,XE7能够全力推动研究效率的提高。
经济实惠超越了系统成本
Park XE7不仅仅是性价比的研究***原子力显微镜,也是使用成本的原子力显微镜。Park XE7中所搭载的True Non-Contact?模式让用户无需频繁更换昂贵的探针尖端,并且它配有业内*多的扫描模式,兼容性极佳,让您可随时升***系统功能,从而延长产品的使用寿命
Park XE7
满足研究的创新功能
精确的XY方向扫描,彻底消除了交叉耦合误差
■样品探针和针尖的两种独立闭环XY和Z平板式扫描
■平板式和线性XY扫描,残余弯曲误差极小
■整个扫描范围内的水平线性误差小于2nm
■精确的高度测量
Non-ContactTM(真正非接触TM)模式能够延长针尖寿命,
提供高分辨率和保护样品。
■其Z伺服速度是压电管基础系统的10倍
■非接触式可降低针尖摩损、延长使用寿命
■成像分辨率优于同类原子力显微镜
■增强样品兼容性,提高扫描速度
*丰富的功能拓展方案
■支持多种SPM模式
■多种可选配测量模式
■多种可选配件及更新,扩展性能优越
*为便利的使用设计
■开放式样品空间,提高样品及针尖更换效率
■预对准针尖安装和同轴直视光路直观地实现激光对准
■燕尾锁方便镜头拆卸
Park XE7
AFM技术
无扫描器弓形弯曲的平直正交XY轴扫描
Park的串扰消除技术不仅改善了扫描器弓形弯曲的缺点还能够在各种不同扫描位置,扫描速度和扫描尺寸条件下进行平直正交的XY轴扫描。即使是*平坦的样品也不会出现如光学平面,各种偏移扫描等曲率的背景。由此可以为您在研究中遇到的所有极具挑战性的问题提供高精确度的纳米测量。
无耦合关系的XY和Z扫描器
Park和竞争对手*根本的区别在于扫描器的构造,Park独特又独立的XY轴与Z轴扫描器设计使其达到了无可比拟的高精度的纳米分辨率数据。
精确的表面测量
样品表面平直扫描!
■低残差弓形弯曲
■无需软件处理(原始数据)
■不受扫描位置影响也会有精确的扫描结果
真正非接触模式TM可保护针尖锋利度
原子力显微镜的针尖本身很脆弱,在扫描过程中,针尖磨损会逐渐降图片质量和分辨率。
测量表面软的样品时,针尖也会破坏样品并生成不准确的样品高度测量数据。
作为Park原子力显微镜*独特的***种扫描模式,
真正非接触模式TM可持续获得高分辨率且精确的数据,同时保持针尖的完整性。
Park XE7
配备创新的AFM技术
■10 um x 10um扫描范围的二维柔性导向扫描器
XY轴扫描器含有对称的二维柔性和高强度压电叠堆,可在保持平面外运动*少的情况下,实现高正交运动以及纳米***样品扫描下的高影响度。紧凑且坚固的结构是为了低噪声高速伺服回应而设计的。
■柔性导向的高强力Z轴扫描器
凭借着高强度压电叠堆和柔性结构,其可以允许扫描器以的速度纵向移动,这是传统原子力显微镜中扫描器所无法做到的。Z轴扫描范围可从标准的12μm增至40μm(选配件,长距离Z轴扫描器)。
■滑动连接的SLD扫描头
燕尾式轨道设计,轻松更换原子力显微镜镜头。该设计可将镜头自动锁定至预对准的位置,同时与电路系统连接,无线缆操作,重复定位精度几奈米。借助低相干性的830nmSLD激光器,显微镜可精确成像并可在皮牛量***进行力-距离曲线获取。此外,SLD激光器830nm的波长也消除了环境光照的干扰,让用户可随意在可见光谱实验中使用原子力显微镜。
■操作简易的样品台
开放式设计可容纳100mm*100mm*20mm的样品,且可轻易从侧面更换样品和探针。
■手动的XY轴样品台
在手动XY轴样品台的精确控制下,样品的测量定位变得简单。 XY轴样品台的行程范围是13mm x 13mm。
■手动的光学对焦平台
同轴镜头可手动调焦。
以DSP为核心的电路控制系统
原子力显微镜的纳米***信号是由高性能的Park XE电子控制器所控制和处理的。凭借着低噪声设计和高速处理单元,Park XE电子控制器成功实现了True Non-ContactTM模式,这是纳米***成像和精确电压电流测量的绝佳选择。
■高性能DSP,频率达600MHz,处理速度高达4800MIPS
■低噪声设计,带来精确的电流电压测量
■全能系统,融合各种扫描探针显微镜技术
■外部信号获取模块,获取原子力显微镜输入/输出信号
■16位数字图像
■16位数字图像
■16位ADC/DAC,频率为500kHz
■利用TCP/IP连接隔离电脑噪声
Park XE7
世界上****和*容易操作的AFM
10μm x10μm扫描范围的二维挠性导向扫描器
XY扫描器含系统二维柔性和强力压电堆叠,全范围正交移动时,具有业界*小的水平线性误差,并能实现精确的样品纳米***扫描。
带高分辨率的同轴直视光路
同轴直视光路使得用户直接俯视观看样品,从而很容易就能找到目标区域。高分辨率CCD具备变焦功能,移动过程中可确保清晰的图像质量。
简单的探针和样品更换
独特的头部设计让您能够轻易地从侧面更换新的探针和样品。借助安装悬臂式探针夹头中预先对齐的悬臂,你无需进行繁染的激光校准工作。
简单且敏锐的激光校准
凭借着我们的预校准悬臂架,悬臂在装载时激光便可聚焦完毕。此外,自上而下的同轴视角让您可以轻松地找到激光光点。由于激光垂直照射在悬臂上,您可以凭两个定位旋钮,将激光光点准确定位。这样,您可以在激光准直界面中,轻易地找到激光并将其定位在PSPD上。此时,您只需要稍微调整以化信号,便可开始获取数据。
Park XE
适用于任何研究
标准成像
■真正的非接触模式
■接触模式
■间歇式(轻敌式)AFM
■横向力模式(LFM)
■相位成像
化学性能
■功能化探针的化学力显微镜
■电化学显微镜(EC-STM和EC-AFM)
介电/电压性能
■静电力显微镜(EFM)
■动态接触式静电力显微镜(DC-EFM)
■压电力显微镜(PFM)
■高电压PFM
力测量
■力-距离(F-D)光谱
■力-体积成像
■热噪声法标定弹性系数
电性能
■导电AFM
■IV谱线
■扫描开尔文探针显微镜(SKPM/KPM)
■高电压SKPM
■扫描电容显微镜(SCM)
■扫描电阻显微镜(SSRM)
■扫描隧道显微镜(STM)
■扫描隧道光谱(STS)
■时间分辨的光电流测绘(Tr-PCM)
磁性能
■磁力显微镜(MFM)
■可调外加磁场MFM
机械性能
■力调制显微镜(FMM)
■纳米压痕
■纳米刻蚀
■高电压纳米刻蚀
■纳米操控
■压电力显微镜(PFM)
光学性能
■探针增强拉曼光谱(TERS)
■时间分辨的光电流测绘(Tr-PCM)
热性能
■扫描热感显微镜
选项
25μmZ扫描器
■工作距离:25μm
■激光类型:LD(650nm)orSLD(830nm)
■扫描器谐振频率:1.7kHz
■零位扫描噪声:0.03nm(typical),0.05nm(maximum)
光学头
■光学兼容性:上方及侧面
■激光类型:LD(650nm)orSLD(830nm)
■Z扫描范围:12μm or 25μm
■零位扫描噪声:0.03nm(typical),0.05nm(maximum)
■扫描器谐振频率:3kHz(12μm XE Head),1.7kHz(25μm XE Head)
磁场发生器
■施加外部磁场,平行于样品表面方向
■强度范围:-300 ~+300 高斯,-1500 ~ +1500高斯
■磁场强度可调
■由纯铁芯和双螺线管组成
夹制探手
■适用于未装载的探针
■可以为电力显微镜和导电显微镜提供偏压
■探针偏压范围:-10V to +10V
■支持所有标准模式及高***模式,扫描隧道显微镜、扫描电容显微镜及液体成像除外。
液体池
■多功能液池
注满液体/气体的开式或闭式液池
控温范围:4°C to +110°C(in air), 4°C to +70°C(with liquid)
■电化学工作池
■开放/闭式液池
液池用探手
■专为液体环境成像设计
■耐常见缓冲液及弱酸碱腐蚀
■在液体环境下实现接触和非接触成像
控温台
■制热制冷台(-25~180度)
■250度控温台
■600度0控温台
信号接入模块
■使原子力显微镜可接入各种输入/输出信号
■XY及Z扫描器的扫描器驱动信号
■XY及Z扫描器的位置信号
■垂直/水平方便的悬臂挠度信号
■样品及悬臂的偏压信号
■XE7的驱动信号
■系统的辅助输入信号
Park XE7
规格
扫描器
XY扫描器
闭环控制式单模块柔性XY-扫描器
扫描范围:100μm x 100μm
50μm x 50μm
10μm x 10μm
Z扫描器
柔性引导高力度扫描器
扫描范围:12μm
25μm
光学系统
可观察样品和探针的直视同轴光学系统
10X物镜(可选20X)
视场:480X360μm
CCD:1M像素(像素分辨率:0.4μm)
样品尺寸
样品尺寸:10mm
样品高度:20mm
电路系统
高性能DSP : 600 MHz with 4800 MIPS
图像尺寸: 4096 x 4096像素, 16个数据图像
信号输入: 在500kHz取样时, 16位ADC的20个通道
信号输出: 在500kHz取样时, 16位ADC的21个通道
同步信号 :图像结束, 线结束及像素结束TTL信号
主动Q控制(选配)
悬臂梁弹性常数校准(选配)
CE Compliant
电源 : 120 W
信号处理模块 (选配)
选项/模式
标准成像
真正的非接触模式
接触模式
间歇式(轻敲式)AFM
横向力模式(LFM)
相位成像
化学性能
功能化探针的化学力显微镜
电化学显微镜(EC-STM和EC-AFM)
介电/压电性能
静电力显微镜(EFM)
动态接触式静电力显微镜(DC-EFM)
压电力显微镜(PFM)
高电压PFM
力测量
力-距离(F-D)光谱
力-体积成像
磁性能
磁力显微镜(MFM)
可调外加磁场MFM
光学性能
探针增强行拉曼光谱(TERS)
时间分辨的光电流测绘(Tr-PCM)
电性能
导电AFM
I-V谱线
扫描开尔文探针显微镜(SKPM/KPM)
高电压SKPM
扫描电容显微镜(SCM)
扫描电阻显微镜(SSRM)
扫描隧道显微镜(STM)
扫描隧道光谱(STS)
时间分辨的光电流测绘(Tr-PCM)
机械性能
力调制显微镜(FMM)
纳米压痕
纳米刻蚀
纳米刻蚀
纳米操纵
压电力显微镜(PFM)
热性能
扫描热感显微镜
样品台
XY台工作范围:13X13mm
Z台工作范围:29.5mm
聚焦台工作范围:70mm
软件
XEP
系统控制和数据采集的专用软件
实时调整反馈参数
通过外部程序(选项)进行脚本***控制
XEI
AFM数据分析软件