现在位置：首页>光学仪器>电子显微镜>
扫描透射电子显微镜（STEM）
英国Quorum K975X多用途高真空镀膜仪
价 格：询价
产 地：更新时间：2021-01-18 15:13
品 牌：型 号：K975x
状 态：正常点击量：1999
400-006-7520
联系我时，请说明是在上海非利加实业有限公司上看到的，谢谢！
联 系 人：
上海非利加实业有限公司
电 话：
400-006-7520
传 真：
400-006-7520
配送方式：
上海自提或三方快递
联系我时请说在上海非利加实业有限公司上看到的,谢谢！
仪器简介：K975X涡轮蒸镀仪是***个多用途系统，它具有灵活性和模块化扩展功能，以适应不同的样品制备。它可从蒸篮和坩锅进行碳蒸发、金属蒸发并且可选溅射附件。K975X可应用***系列成熟技术，包括镀碳及TEM覆形，碳/金属蒸发、低角度Shadowing和通过使用双源蒸发进行顺序涂层，可选的溅射镀膜附件能适用于各种靶材。通过使用微处理控制器，更增强了系统的灵活性，用户很容易附加各种可选件，但是这些“缺省”都是经过优化操作设计，使得全自动和手动操作均可实现*佳操作。独特的抽屉式样品装载系统使用户方便放入各种样品，铰链式顶盖结构很容易达到系统其它区域。涡轮分子泵安装在系统外部，可方便安装及更换，它的前***真空为旋转真空泵。 整个抽气过程为全自动控制，达到高真空后进行蒸发。本仪器为台式，可方便地进行使用控制，使用中的疏忽也不易造成损坏。K975S半导体晶圆蒸镀仪K975S基于K975X，但是它具有特殊的装载锁定门，可允许放入8英寸（200mm）晶圆镀碳，应用于FIB。优点● 容易操作● 使用灵活● 可靠的碳蒸发● 方便的样品装载及卸载● 灵活的操作，可选择碳及金属蒸发源● 在排气过程中可防止样品损坏● 系统灵活性强● 很容易测量金属或碳沉积膜厚技术参数：仪器尺寸：450mm W x 500mm D x 300mm H 工作腔室：硼硅酸盐玻璃，带有铰链式顶盖。250mm Dia x 300mm H（样品可达直径200 mm即8"）安全钟罩：聚碳酸酯，维护时工作腔室很容易移开重量：65Kg碳枪：高度可调，倾斜0-20o ，使用直径6.15mm碳棒涡轮分子泵：100L/Second为标准配置，可选各种尺寸真空计范围：ATM - 1x10-7mbar工作真空达到时间：15分钟内操作真空：10-5 mbar量***（可选液氮冷阱）蒸发源（脉冲或可变控制）：四种模式可选，低电压a.c. V, 5V, 15V,25V @ 25 amps. 7V @100 amps样品台：0-45o可倾斜 旋转样品台（可选）：直径60mm，倾斜0-45o，具有15rpm 到 45rpm可变速度控制Services –Argon（对可选溅射附件） - Nominal 4psi. 真空泵：No. 2 泵(2m3/Hr)，complete with Vacuum Hose & Oil Mist Filter电源：230V 50/60Hz (包含泵电流为8 Amp)；115V 50/60Hz (包含泵电流为16 Amp)注：In Circuits with Current Trips , when using Pulse for 230 v a 16amp minimum for 115 v a 32 amp minimum可选溅射附件 溅射电流：0到100mA沉积速率：0到50nm/分（Au）标准靶：57mm Au（可选Pt, Pt/Pd, Pd, Cr, Ni, Cu, Ag）定时：0到4分钟HT安全互锁装置可选膜厚监测系统可选辉光放电主要特点：特点● 全自动抽真空系统● 样品尺寸可达140毫米见方或200毫米直径● 独特的“anti-stick”碳棒蒸发机构● 抽屉式样品装载系统● 可选的蒸镀类型，具有四种蒸发设置● 约束的或开放的排气控制● 可选用各种溅射靶材附件适用于***系列金属● 可选膜厚监测系统
沪公网安备31011502016460号
