微米膜厚测量仪 C11011-21

• 详细介绍

• 详细参数

  型号	C11011-21
  可测膜厚范围（玻璃）	25 μm to 2200 μm*1
  光源	Infrared LD （1300 nm)
  光斑尺寸	Approx. φ60 μm*4
  工作距离	155 mm*4
  可测层数	Max. 10 layers
  分析	Peak detection
  测量时间	16.7 ms/point*5
  外部控制功能	RS-232C, Ethernet
  电源	AC100 V to AC240 V, 50 Hz/60 Hz
  功耗	Approx. 50 VA
  接口	USB 2.0 (Main unit - Computer)
  可测膜厚范围（硅）	10 μm to 900 μm*2
  测量可重复性（硅）	100 nm*3
  测量准确度（硅）	< 500 μm: ±0.5 μm, > 500 μm: ±0.1 %*3

  
  

  * 1：玻璃折射率相同。 
  
  * 2：硅折射率相同。 
  
  * 3：测量硅时为标准偏差。 
  
  * 4：可选1000毫米工作距离的型号。 （型号C11011-01WL） 
  
  * 5：***短曝光时间。

  产品特性

  ● 利用红外光度测定进行非透明样品测量 
  

  
  

  ● 测量膜厚度范围（玻璃）：25μm-2200μm 
  

  
  

  ● 测量速度高达60 Hz 
  

  
  

  ● 可测量层数：10层 
  

  
  

  ● 测量带图纹晶圆或带保护膜的晶圆 
  

  
  

  ● 工作距离长 

  
  

  ● Mapping功能 
  

  
  

  ● 可外部控制

  外形尺寸（单位：mm）

  

  

  
  

• 产品优势

• 
  

  C11011-21型光学微米膜厚测量仪利用激光干涉法原理，测量速度达60Hz，适用于产品在线测量。此外，选配的作图系统可以用于测量指定样品的厚度分布。C11011-01W应用广泛，比如用于产品制造过程监控或质量控制。

  
  

  C11011-21可测玻璃膜厚范围分别为25 μm 到2200 μm 和10 μm 到 900 μm，可测层数zui多为10层。