nanoArch P150微纳3D打印机

 nanoArch P150微纳3D打印机由深圳市摩方材料科技有限公司自主研发的高精密微纳3D打印系统。设备采用面投影微立体光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技术，是目前行业极少能实现超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系统。PμSL技术使用高精度紫外光刻投影系统，将需打印模型分层投影至树脂液面，快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂工业样件。该技术具有成型效率高、加工成本低等突出优势，被认为是目前***具有前景的微尺度加工技术之***。

基本参数

光源：UV-LED(405nm)

打印材料：高精度硬性光敏树脂，支持韧性树脂、PEGDA、耐高温树脂、生物医用树脂、柔性树脂、水凝胶、透明树脂、低收缩树脂、二氧化硅掺杂树脂、二氧化皓掺杂树脂等其他功能树脂等

光学精度：25μm

打印层厚：10-50μm

打印尺寸：48mm(L)×27mm(W)×50mm(H)

文件格式：STL

设备功率：3000W

系统外形尺寸：520㎜(L)×530㎜(W)×680㎜(H)

重量：90kg

电气要求：100-240V AC,50/60HZ,1.5kW

应用领域：

可广泛应用于生物检测、微机械、柔性材料与器件、生物医疗工程等领域