原子层沉积系统PICOSUN™- P系列
价 格：询价
产 地：芬兰更新时间：2020-09-23 13:49
品 牌：Picosun型 号：PICOSUN™- P系列
状 态：正常点击量：1212
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原子层沉积系统PICOSUN?- P系列ALD技术可以覆盖各种形状、各种表面的样品，可以覆盖***
细小的地方，***难到达的地方。具有高度的保形性、均***性及***无针孔。这使得ALD可以应用于各种行业里，实现各种表面的保护。ALD薄膜可以附着在各种表面上，例如金属，玻璃，塑料，乃至纤维及粉末。作为气相、低温的沉积技术，ALD薄膜可以生长在非常敏感的表面上，例如聚合物薄
膜。
***，Picosun的ALD技术应用在钟表部件、珠宝、硬币上进行
防着色，防腐蚀的装饰涂层。在生物植入医疗部件上的生物兼容、生物活性涂层。
致密、惰性、密封、弹性、透明的ALD薄膜技术挑战传统的膜
生长方式。在PCB防腐蚀保护、防摩损等领域，ALD层大大提升了部件的质量、可靠性及寿命。
产品参数
| PICOSUN? ALD P-300 Pro技术参数(更多产品技术参数参考公司网站） |
| 衬底尺寸和类型 | 最大300mm晶圆/单片
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| 工艺温度 | 50 - 500 °C
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| 基片传送选件 | 半自动装载，用单片Load lock与磁力操纵杆实现
25片晶圆盒对盒式全自动装载（cassette-to-cassette），用PICOPLATFORM? 300集群系统实现
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| 标准 | SEMI S2认证
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| 前驱体 | 液态，固态，气态，臭氧源
等离子体（仅供200mm晶圆使用，最多4路气体）
前驱源余量传感器，并提供清洗和装源服务
6条独立源管线,最多加载8个前驱体源（最多12个前驱体源，加上plasma管路共7根独立源管线）
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| 重量 | 820 kg
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尺寸(W x H x D)
| 160 cm x 80 cm x 240 cm
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| 选件 | 集群工具，PICOFLOW?扩散增强，N2发生器，尾气处理，定制设计，与工厂软件连接服务。
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| 验收标准 | 标准设备验收标准为Al2O3工艺，
其他工艺可具体协商：其他工艺、应用具体验收标准如：
--不均匀性
--颗粒物含量
--重金属污染
--电学性能 |
产品介绍
原子层沉积系统PICOSUN?- P系列ALD技术可以覆盖各种形状、各种表面的样品，可以覆盖*** 细小的地方，***难到达的地方。具有高度的保形性、均***性及***无针孔。这使得ALD可以应用于各种行业里，实现各种表面的保护。ALD薄膜可以附着在各种表面上，例如金属，玻璃，塑料，乃至纤维及粉末。作为气相、低温的沉积技术，ALD薄膜可以生长在非常敏感的表面上，例如聚合物薄 膜。 ***，Picosun的ALD技术应用在钟表部件、珠宝、硬币上进行 防着色，防腐蚀的装饰涂层。在生物植入医疗部件上的生物兼 容、生物活性涂层。 致密、惰性、密封、弹性、透明的ALD薄膜技术挑战传统的膜 生长方式。在PCB防腐蚀保护、防摩损等领域，ALD层大大提 升了部件的质量、可靠性及寿命。
沪公网安备31011502016460号
