原子层沉积系统PICOSUN™- R系列
价 格：询价
产 地：芬兰更新时间：2020-10-29 14:01
品 牌：Picosun型 号：PICOSUN™- R系列
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科研领域：原子层沉积系统PICOSUN?- R系列高水平的研究和开发需要***好的设备。Picosun ALD是全球ALD设备的***。PICOSUN? R系列设备提供高质量ALD薄膜的沉积技术，并在各种各样的衬底上都表现极佳的均匀性，包括***具挑战性的通孔的、超高深宽比和颗粒等样品。我们为液体、气体和固体化学物提供的更高***的，易更换的前驱源系统，能够在晶圆、3D样品和各种纳米特性的样品上生长颗粒度***小的薄膜层。在***基本的PICOSUN? R系列配置中可以选择多个独立的，完全分离的源入口匹配多种类型的前驱源。PICOSUN? R系列独特的扩展性使ALD工艺可以从研究环境直接过渡到生产环境的PICOSUN? P系列ALD系统。由于研发型与生产型PICOSUN?反应腔室核心设计特点都是相同的,这消除了实验室与制造车间之间的鸿沟。对大学来说,突破创新的技术转化到生产中，就会吸引到企业投资。
产品参数
PICOSUN?ALD R-200 Advanced高级型 技术参数：（其他R系列技术参数请参考HONOPROF网站）
| 衬底尺寸和类型 | 50-200 mm /单片
156 mm x 156 mm太阳能硅片
3D复杂表面衬底
粉末与颗粒
Roll-to-roll , 衬底最大宽 70 mm
多孔，通孔，高深宽比（HAR）样品
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| 工艺温度 | 50 - 500 °C , 可选更高温度
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| 基片传送选件 | 气动升降（手动装载）
预真空室安装磁力操作机械手（Load lock ）
半自动装载，用PICOPLATFORM?200集群系统实现
25片晶圆盒对盒式全自动装载（cassette-to-cassette），用PICOPLATFORM?200集群系统实现
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| 前驱体 | 液态、固态、气态、臭氧源、等离子体（最多4路气体）
6根独立源管线，最多加载12个前驱体源（加上Plasma管路，共7根独立源管线）
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| 重量 | 350 + 200 kg
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| 尺寸（W*H*D） | 取决于选件
最小 146 cm x 146 cm x 84 cm
最大 189 cm x 206 cm x 111 cm
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| 选件 | 集群工具，PICOFLOW? 扩散增强器，集成椭偏仪，QCM，RGA，超高真空兼容，N2发生器，尾气处理器，定制设计，手套箱集成（用于惰性气体下装载）
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| 验收标准 | 标准设备验收标准为 Al2O3工艺 |
产品介绍
科研领域：原子层沉积系统PICOSUN?- R系列高水平的研究和开发需要***好的设备。Picosun ALD是全球ALD设备的***。PICOSUN? R系列设备提供高质量ALD薄膜的沉积技术，并在各种各样的衬底上都表现极佳的均匀性，包括***具挑战性的通孔的、超高深宽比和颗粒等样品。我们为液体、气体和固体化学物提供的更高***的，易更换的前驱源系统，能够在晶圆、3D样品和各种纳米特性的样品上生长颗粒度***小的薄膜层。在***基本的PICOSUN? R系列配置中可以选择多个独立的，完全分离的源入口匹配多种类型的前驱源。PICOSUN? R系列独特的扩展性使ALD工艺可以从研究环境直接过渡到生产环境的PICOSUN? P系列ALD系统。由于研发型与生产型PICOSUN?反应腔室核心设计特点都是相同的,这消除了实验室与制造车间之间的鸿沟。对大学来说,突破创新的技术转化到生产中，就会吸引到企业投资。
沪公网安备31011502016460号
