PLD脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80
价 格:询价
产 地:美国更新时间:2020-10-29 14:11
品 牌:Neocera型 号:Pioneer240,180, 120,80
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脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 主要特点:
*PLD概念清晰易懂:激光束使靶子表面蒸发,生产出与靶子同样化学组成的膜。
*PLD应用广泛:很多材料在多样的气体环境和很宽的气体压力范围内都可以镀膜。
*PLD节省成本:***束激光能够供多个真空系统使用。
*PLD高效率:在10至15分钟,可生长高质量的样品。
*PLD可升***:当需要大批量生产复合氧化物膜时,Neocera公司将证明PLD作为生产工具的价值。
PLD 是***种复杂材料沉积的有效方法
脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition)是***种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材,生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的独特之处是能量源(脉冲激光)位于真空室的外面。这样,在材料合成时,工作压力的动态范围很宽,达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度,可以合成***系列具有独特功能的纳米结构和纳米颗粒。另外,PLD 是***种“ 数字” 技术,在纳米尺度上进行工艺控制(?/pulse)。
? Neocera 在PLD 设备与工艺开发方面具有不可超越的经验
? Pioneer 系列PLD 系统是全球研发领域***为广泛使用的商业化系统
? Neocera 不仅为客户提供***基本的PLD 系统,也提供完整的PLD 实验室交钥匙方案
产品参数
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 技术参数:
型号 | Pioneer240 | Pioneer180 | Pioneer120 | Pioneer80 |
最大wafer直径 | 8” | 6” | 2” | 1” |
最大靶材数量 | 6个1” 或4个2” | 6个1” 或4个2” | 6个1” 或3个2” | 4个1” |
压力(Torr) | <10-8 | <10-8 | <10-8 | <10-8 |
真空室直径 | 24” | 18” | 12” | 8” |
基片加热器 | 8”,旋转 | 6”,旋转 | 3”, 旋转 | 2”,旋转 |
最高样品温度 | 850 ° C | 850 ° C | 950 ° C | 950 ° C |
Turbo泵抽速 (liters/sec) | 800 | 260 | 260 | 70 |
计算机控制 | 包括 | 包括 | 包括 | 包括 |
基片旋转 | 包括 | 包括 | - | - |
基片预真空室 | 包括 | 选件 | 选件 | - |
扫描激光束系统 | 包括 | 选件 | - | - |
靶预真空室 | 包括 | - | - | - |
IBAD离子束辅助沉积 | 选件 | 选件 | 选件 | - |
CCS连续组成扩展 | 选件 | 选件 | - | - |
高压RHEED | 选件 | - | - | - |
520 liters/sec泵 | a/n | 选件 | - | - |
产品介绍
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 — 基于卓越经验的创新设计
Neocera 利用PLD 开展了深入广泛的研究,建立了获得***佳薄膜质量的临界参数,特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。
这些思考已经应用于Pioneer 系统的设计之中。
? 很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧压(>100 Torr)下冷却可获得更高的质量。所有Pioneer 系统都具备此功能(压力范围可从额定初始压强到大气压)。这也有益于纳米粒子的生成。
? Pioneer PLD 系统的激光束入射角为45°,保持了激光密度在靶材上的***大均匀性,同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。更大的入射角能够拉长靶材上的激光斑点,导致密度均匀性的损失。
? 为了避免使用昂贵的与氧气兼容的真空泵,消除油的回流对薄膜质量的影响,所有Pioneer 系统的标准配置都采用无油泵系统。
? 我们的研究表明靶和基片的距离是获得***佳薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统可以控制靶材和基片的距离,以达到***优的沉积条件。